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碳化矽陶瓷製品的拋光方法

文章出處:原創網責任編輯:王小兩作者:王小兩人氣:-發表時間:2016-07-20 16:46:00【

  目前碳化矽陶瓷製品常用的拋光方法有以下幾種:  

  1.機械拋光 機械拋光是靠切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等輔助工具,表麵質量 要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。  

  2.化學拋光 化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可以拋光形狀複雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。 

  3.電解拋光 電解拋光基本原理與化學拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分,使表麵光滑。與化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。  電化學拋光過程分為兩步: (1)宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。 (2)微光平整 陽極極化,表麵光亮度提高,Ra<1μm。  

  4.超聲波拋光 將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會引起工件變形,但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產物脫離,表麵附近的腐蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程,利於表麵光亮化。  

  5.流體拋光 流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高速往複流過工件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻上磨料製成,磨料可采用碳化矽粉末。 

  6.磁研磨拋光 磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。  

此文關鍵字:碳化矽陶瓷